ITO鍍膜技術原理

旋轉陰極采用的是真空磁控濺射鍍膜技術。磁控濺射鍍膜就是用荷能粒子轟擊靶材表面使得靶材表面原子從母體中逸出打在要鍍膜的物件表面，其基本過程是，在鍍膜線真空室內，氣體在高電壓下放電產生等離子體，等離子體在陰極內互相垂直的電磁場中沿環形磁場在靶面附近做加速螺旋運動，被加速的正離子轟擊靶表面時，將自身的能量傳給靶材表面的原子，入射正離子轟擊靶材表面后除產生原子外，還有產生電子，原子離開靶材沉積在物件表面上形成薄膜。鍍膜產品的應用非常廣泛，最常見的就是手機的觸摸屏。